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光譜分析儀的系統誤差都是從哪來的？
發布時間：2021-09-03 10:03:11 點擊：5485
在光譜分析中，與其他的一切測量一樣，系統誤差的存在是不能允許的。我們研究光譜分析中的系統誤差，就是找出系統誤差的一般規律及其產生的原因，并且盡可能的分析出系統誤差的具體來源，努力消除它的影響。而且對尚存在的系統誤差要估計出其值的大小。因此，發現、減少或消除、估算系統誤差是處理系統誤差問題的關鍵所在。
光譜分析中系統誤差的來源
標準樣品與分析樣品性質不相同將引起系統誤差。引起這一類系統誤差有下列情況
1.金屬或合金的固體標準樣品和分析樣品的組織結構不相同。
2.粉末法分析時，制備的標準樣品和分析樣品在基體上或加入的物質結構上不相同。
3.標準樣品與分析樣品在質量、厚度和直徑上的差異，特別是在標準樣品或分析樣品有一方小于臨界值時，將引起蒸發和激發上的差異。
4.標準樣品或控制樣品化學成分的不準確，以及化學組成的均勻性不好。
第三元素的影響將引起系統誤差。引起這一類系統誤差的情況有：
1.除了基體和分析元素以外存在于標準樣品和分析樣品中的其他元素統稱為“第三元素”，第三元素的存在能引起樣品蒸發及激發的改變，也可能存在譜線的干擾。
2.在標準樣品與分析樣品預處理中的元素污染，導致分析結果的偏離。
3.使用代用標準樣品進行分析，這樣將造成分析樣品與標準樣品的化學組成相差較大。
分析方法引起的系統誤差。引起這一類系統誤差的情況有：
1.分析方法理論的不完善，必將引進系統誤差。
2.儀器分析條件選擇不恰當，是分析靈敏度降低或不穩定。
其他方面引起的系統誤差。
如操作者習慣性的偏向；在粉末法或溶液法分析時，標樣配置錯誤或計算錯誤；或者由于試劑不純，引起分析結果偏離等。上一篇：攝譜儀光譜定量分析隨機誤差的來源 下一篇：光譜分析檢測儀哪種更好？
